一种新的MOS结构量子化效应修正模型

来源 :固体电子学研究与进展 | 被引量 : 0次 | 上传用户：pangzd

【摘要】

：

从载流子在ＭＯＳ结构反型层内的经典分布和量子化后的子带结构出发，提出了经典的和量子化的表面有效态密度（ＳＬＥＤＯＳ：Ｓｕｒｆａｃｅｌａｙｅｒｅｆｆｅｃｔｉｖｅｄｅｎｓｉｔｙ－ｏｆ－ｓｔａｔｅｓ）的概念。利用表面有效态密度的概念建立了经典理论框架和量子力学框

【作者】

：

马玉涛刘理天

【机构】

：

清华大学微电子学研究所

【出处】

：

固体电子学研究与进展

【发表日期】

：

2000年3期

【关键词】

：

电荷分布模型反型层电荷量子化效应 MOS MOS chargedistributionmodel inversionlayercharge quantumm

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从载流子在ＭＯＳ结构反型层内的经典分布和量子化后的子带结构出发，提出了经典的和量子化的表面有效态密度（ＳＬＥＤＯＳ：Ｓｕｒｆａｃｅｌａｙｅｒｅｆｆｅｃｔｉｖｅｄｅｎｓｉｔｙ－ｏｆ－ｓｔａｔｅｓ）的概念。利用表面有效态密度的概念建立了经典理论框架和量子力学框架内的电荷分布模型。该模型包含了强反型区表面电势的变化对载流子浓度的影响，具有很高的计算效率和稳定性。在模型基础上，研究了量子化效应对反型

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