【摘 要】
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MMST工程的光刻技术关键取决于i线（365nm）和深紫外（248nm）激光光学重复步进曝光机。大多数的图形层制作均使用传统的用湿法显影的抗蚀剂，而对关键的栅和金属层则采用“DESIRE”工
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MMST工程的光刻技术关键取决于i线（365nm）和深紫外（248nm）激光光学重复步进曝光机。大多数的图形层制作均使用传统的用湿法显影的抗蚀剂，而对关键的栅和金属层则采用“DESIRE”工艺，使用表面成象，干法显影的抗蚀剂。倘若能对光刻工艺的各个关键步骤实行实时监控，则可望实现光刻完全自动化。
The lithography of the MMST project depends critically on the i-line (365nm) and deep-UV (248nm) laser optical repeat stepper. Most graphic layers are made using conventional wet developed resist, while for critical gate and metal layers the “DESIRE” process uses surface-imagewise, dry-developed resist. If real-time monitoring of each of the key steps in the lithography process is possible, complete lithography is expected to be fully automated.
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