论文部分内容阅读
本文报道了用微波等离子体化学气相淀积(MP—CVD)技术从 SiH_4+H(?)进行 a-Si∶H 薄膜的高速淀积研究。对淀积参数对淀积行为的影响、淀积膜的结构性能也进行了研究。研究表明,在保证材料具有一定质量的前提下,用该技术能达到高达30μm/h 的淀积速率,且淀积效率达到近100%。
氢化非晶硅膜高速淀积的研究
【摘 要】
：
本文报道了用微波等离子体化学气相淀积(MP—CVD)技术从 SiH_4+H(?)进行 a-Si∶H 薄膜的高速淀积研究。对淀积参数对淀积行为的影响、淀积膜的结构性能也进行了研究。研究表
【机 构】
：
中国科学技术大学材料科学与工程系,中国科学技术大学材料科学与工程系
【出 处】
：
无机材料学报
【发表日期】
：
1992年2期
其他文献
MgO 掺杂的 ZrO_2的前驱物用 ZrOCl_2和 MgCl_2的水溶液在 NH_4OH 作用下以共沉淀的形式制备.前驱物可能为 Zr(OH)_4及 Mg(OH)_2与水的络合物.用热重分析、差热分析和 X 光衍
通过物理、化学表征分析,揭示了激光法纳米级氮化硅粒子短程有序结构特征.用光电子能谱、光学漫反射和荧光光谱等手段研究了纳米氮化硅的电子结构.
用溶胶-凝胶法以 Ni（NO<sub>3</sub>）<sub>2</sub>·6H<sub>2</sub>O 为原料,乙二醇为溶剂制备了 NiO 薄膜.采用光学显微镜及 X 射线衍射仪进行了薄膜显微结构及晶相分析;
本文在水解沉淀法合成的莫来石中引入以 CeO<sub>2</sub>为稳定剂的 ZrO<sub>2</sub>,摸索了不同加入量时的最隹烧结条件,测定了莫来石的室温和中温力学性能随 Ce-TZP 加入量
作者在环-块试验机上考察了 Cr_2O_3 涂层在无机盐溶液中的摩擦磨损性能,并对其磨损表面进行了形貌和组成分析.结果表明,各种无机盐溶液摩擦系数的差异归因于盐溶液在 Cr_2O_
本文采用 DSC、XRD、TEM 和瞬态反射率 R—温度 T,分析了 Sb_2Se_3,SbSe 和 Sb_3Se_2薄膜的非品析晶过程,研究了超化学计量 Sb_2Se_3的 Sb 对晶化行为的影响,发现晶体形貌和
本文研究了在大气中用激光束直接加热 Zn 靶制备 ZnO 纳米粉.结果表明,不同的激光能量密度制备出的 ZnO 纳米粉的形状结构不同.通常情况下颗粒相互粘连为链状;条件合适时可得
本文通过 SiC 晶须对 Si_3N_4陶瓷材料的补强,发现复合材料在 SiC 晶须含量为10vol%时材料的抗折强度和断裂韧性可分别从原来的838MPa 和8.4MPam~(1/2)提高到补强后的946MPa
研究了ＰＺＴ压电陶瓷断裂韧性Ｋ１ｃ随温度、特别是铁电相变的变化。探讨了极化电场与外应力的相对取向对材料Ｋ１ｃ的影响。结果表明，断裂韧性随温度升高而下降至居里点处的最低值，然后略有回升
制备了层间阳离子为一价(Li~+,Na~+,K~+,Rb~+,Cs~+),二价(Mg~(2+),Ca~(2+),Sr~(2+),Ba~(2+))和三价(Y~(3+),La~(3+),Nd~(3+),Eu~(3+))离子的蒙脱石,研究了不同层间阳离子对蒙