【摘 要】
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本文报导了用电镀X射线吸收层的方法制备软X射线光刻掩模的工艺过程及其基本结构与性能,成功地制备出可光刻面积达30mm×40mm、图形最细线宽约l.5μm的实用掩模。并简述了该
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本文报导了用电镀X射线吸收层的方法制备软X射线光刻掩模的工艺过程及其基本结构与性能,成功地制备出可光刻面积达30mm×40mm、图形最细线宽约l.5μm的实用掩模。并简述了该掩模用于X射线光刻的实验情况及结果。
This paper reports the process and basic structure and performance of soft X-ray lithography mask by electroplating X-ray absorption layer. The photolithographic area of 30mm × 40mm and the thinnest line width of about 1 are successfully fabricated. 5μm practical mask. The experimental results and the results of this mask for X-ray lithography are also briefly described.
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