GaAlAs/GaAs DH液相外延的几个问题(摘要)

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圈线着提高液相外延过程的重复性、均匀性对外延工艺中的几个问题:降温速率、混源、陪片、外延系统等提出一些初浅的看法,在上述考虑的条件下已得到初步结果。所得外延片已制成室温连续DH激光器。在提高激光器性能和寿命上还需继续做工作。 Loop to improve the repeatability and homogeneity of the liquid phase epitaxy process Several issues in the epitaxial process: the cooling rate, mixed sources, peppery, epitaxial system, etc. to put forward some preliminary views, in the above considerations have been obtained Preliminary results. The resulting epitaxial wafer has been made at room temperature continuous DH laser. In improving the performance and life of the laser still need to continue to work.
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