高反射薄膜在DF激光辐照下的温度场分布

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建立了光学薄膜温度场的基本理论,利用交替隐型技术,对3.8μm DF激光辐照下高反射薄膜的温度场分布进行了数值模拟和理论分析。 The basic theory of optical film temperature field was established. The temperature field distribution of high reflection film under 3.8 μm DF laser irradiation was simulated and analyzed theoretically by using alternating invisibility technique.
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