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【摘 要】
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利用发射光谱诊断技术研究了磁增强反应离子刻蚀系统中ＣＦ４＋Ｏ２的辐射谱、谱线成分及强度，分析了谱线强度与射频福射功率、氧气含量的关系，并与没有磁场存在时的情况作了比较。
【机 构】
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深圳市新开达电子公司,深圳大学应用物理系
【出 处】
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真空科学与技术
【发表日期】
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1996年5期
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