SDP法制备非晶Y2 O3薄膜用于哈氏(Hastelloy C-276)合金基带表面精修

• 作 者: 王毅 闻家成 郝善鹏 李家志 索红莉
• 机 构: 北京工业大学材料科学与工程学院新型功能材料教育部重点实验室
• 出 处: 北京工业大学学报
• 发表日期: 2021年9期
• 关键词: 哈氏合金 溶液沉积平整化 表面粗糙度 原子力显微镜 非晶Y_(2)O_(3)薄膜 溶液沉积法
• 基金项目: 北京市自然科学基金资助项目(221205),北京市教育委员会科技计划资助项目(KM202010005007)。

为了解决哈氏(Hastelloy C-276)合金基带表面粗糙度过大造成不平整的问题,采用溶液沉积平整化技术在哈氏合金表面制备Y₂O₃非晶薄膜来满足使用要求.通过研究前驱液的稳定性和浓度、热处理温度和涂覆次数对表面粗糙度的影响规律,同时采用高低浓度相结合的方法涂覆非晶薄膜来提高涂覆效率,结果表明:先使用高浓度0.40 mol/L涂覆6次,再使用低浓度0.10 mol/L涂覆6次,获得了表面平均粗糙度Ra值为0.65 nm(5μm×5μm)高表面质量的带材,涂覆效