【摘 要】
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在化学合成、材料制备等技术领域,低温等离子体因其独特的化学活性而被广泛地研究及应用.本文从低温等离子体发生机理出发,介绍了几种不同的等离子体发生器放电模式,结合多晶
【机 构】
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亚洲硅业（青海）有限公司,青海省硅材料重点实验室,青海省亚硅硅材料工程技术有限公司
【基金项目】
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西宁市科学技术局重大技术创新直补项目（2016-G-37）
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在化学合成、材料制备等技术领域,低温等离子体因其独特的化学活性而被广泛地研究及应用.本文从低温等离子体发生机理出发,介绍了几种不同的等离子体发生器放电模式,结合多晶硅生产中氯硅烷制备工序,采用介质阻挡放电（DBD）附加催化剂,结果表明：在频率100kHz、5kV电压激励下,H2/STC摩尔比10：1,反应气以5.0L/min流经反应器,STC一次转换效率达到5.32％,在此基础上,提出低温等离子体在多晶硅行业的应用前景.
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