ArF准分子激光晶化非晶硅薄膜微结构研究

• 作 者: 黄香平 崔连武 肖金泉 闻火 闻立时
• 机 构: 中南大学物理科学与技术学院,中国科学院金属研究所,武汉华硅太阳能科技有限责任公司
• 出 处: 世界科技研究与发展
• 发表日期: 2010年4期
• 关键词: 准分子激光 激光能量 结晶度 excimer laser laser fluence crystallinity
• 基金项目: 基金项目：国家自然科学基金委工程与材料学部青年基金项目（KFJJ200902）,电子薄膜与集成器件国家重点实验室开放课题.

利用ArF准分子激光对非晶硅薄膜的表层进行晶化后，采用拉曼光谱（Raman）、透射电镜（TEM）、场发射扫描电子显微镜（FE—SEM）等实验方法研究不同激光能量密度下晶化层硅薄膜微结构变化。实验结果表明：随激光能量密度的增大，薄膜结晶度增大，晶化层厚度加厚；晶粒尺寸则是先增大，直到激光能量密度增大到210mJ／cm^2后，晶粒尺寸开始减小并且均匀性逐渐变差。最佳的激光能量密度范围为120～180mJ／cm^2，这时薄膜表面晶化层晶粒比较均匀致密，薄膜质量较好。