【摘 要】
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现在半导体制造中所用的硅片平均直径(晶体直径)是4英寸。在美国,3英寸硅片仍用于生产,在最近建立的设备中可制造4英寸硅片。5英寸硅片开始用于生产,而6英寸硅片仅在实验上
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现在半导体制造中所用的硅片平均直径(晶体直径)是4英寸。在美国,3英寸硅片仍用于生产,在最近建立的设备中可制造4英寸硅片。5英寸硅片开始用于生产,而6英寸硅片仅在实验上应用。在日本半导体工业中,估计的生产比例是:3英寸小于5%,4英寸为70%~75%,5英寸为20%,6英寸为零。预计两年后大多数是生长5英寸直径的硅,这将显著地提高平均硅片直径。IC生产厂
The average wafer diameter (crystal diameter) used in semiconductor fabrication today is 4 inches. In the United States, 3-inch wafers are still in production and 4-inch wafers can be made in recently-built devices. 5-inch wafers are being used for production, while 6-inch wafers are only used experimentally. In the Japanese semiconductor industry, the estimated production ratios are: 3 inches to less than 5%, 4 inches to 70% to 75%, 5 inches to 20% and 6 inches to zero. It is expected that most will grow 5-inch diameter silicon after two years, which will significantly increase the average wafer diameter. IC production plant
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