【摘 要】
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据《半导体世界》（日）1994年第2期报道，目前，东艺与1＊M以及西门子等公司共同开发了一种单元面积为0．605pm’（0．55pnlXI．lpm）的存储器单元，在开发过程中，他们采用了O．25Pm设计规范的微细加
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据《半导体世界》（日）1994年第2期报道，目前，东艺与1＊M以及西门子等公司共同开发了一种单元面积为0．605pm’（0．55pnlXI．lpm）的存储器单元，在开发过程中，他们采用了O．25Pm设计规范的微细加工技术。所开发的存储器单元采用了一种新颖的单元结构，该结构是一种使晶体
According to “Semiconductor World” (Japan) No. 2 of 1994, Dong Yi has jointly developed a memory cell with a cell area of 0.605pm ’(0.55pnlXI.lpm) with companies such as 1 * M and Siemens, In the development process, they adopted O. 25Pm design specifications of micro-processing technology. The developed memory cell uses a novel cell structure, which is a crystal structure
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