用原位X射线衍射法对电化学插层过程的研究

• 作 者: 苏玉长 尹志民 徐仲榆
• 机 构: 中南工业大学材料系!长沙410083,中南工业大学材料系!长沙410083,湖南大学新型炭材料研究所!长沙410083
• 出 处: 理化检验(物理分册)
• 发表日期: 2000年10期
• 关键词: 原位X射线衍射 电化学插(脱)层 阶

采用原位 X射线衍射技术研究了石墨在 65% HNO3中的电化学插 (脱 )层过程 ,提出了一套处理 XRD图谱的数据处理方法。

The in situ X-ray diffraction technique was used to study the electrochemical insertion (debonding) process of graphite in 65% HNO3, and a set of data processing methods for processing XRD patterns was proposed.