【摘 要】
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在半导体器件生产中,化学清洗直接关系到生产中每道工序的加工质量,是确保半导体器件质量和成品率的必要手段。硅片的表面清洁剂主要是使用无机酸、氧化剂、络合剂或它们的
【机 构】
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在半导体器件生产中,化学清洗直接关系到生产中每道工序的加工质量,是确保半导体器件质量和成品率的必要手段。硅片的表面清洁剂主要是使用无机酸、氧化剂、络合剂或它们的混合物。NFP 清洁剂即是其中的一种,它是由分析纯或优级纯的硝酸、氧氟酸和磷酸配制而成的。清洁剂
In the production of semiconductor devices, chemical cleaning is directly related to the processing quality of every process in production, which is a necessary means to ensure the quality and yield of semiconductor devices. Silicon surface cleaners use mainly inorganic acids, oxidizing agents, complexing agents or mixtures thereof. One of these is the NFP cleaner, which is formulated from analytical grade or superior grade pure nitric acid, hydrofluoric acid and phosphoric acid. detergent
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