【摘 要】
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本文以浮法在线化学气相沉积法制备的掺杂F的SnO2(FTO)低辐射薄膜低辐射薄膜为研究对象,在钢化炉中进行后期高温处理,采用X射线衍射仪、紫外-可见分光光度计和综合物理性能测试系统(PPMS)研究了其结构、形貌、光电性质的温度效应.通过X光电子能谱分析了薄膜中元素的分布情况,探讨了薄膜电学性能的恶化机理.研究结果表明,FTO薄膜的主要组成为非化学计量比的SnO2-x∶F(x≈0.8～0.9),是金
【出 处】
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2016年中国玻璃行业年会暨技术研讨会
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本文以浮法在线化学气相沉积法制备的掺杂F的SnO2(FTO)低辐射薄膜低辐射薄膜为研究对象,在钢化炉中进行后期高温处理,采用X射线衍射仪、紫外-可见分光光度计和综合物理性能测试系统(PPMS)研究了其结构、形貌、光电性质的温度效应.通过X光电子能谱分析了薄膜中元素的分布情况,探讨了薄膜电学性能的恶化机理.研究结果表明,FTO薄膜的主要组成为非化学计量比的SnO2-x∶F(x≈0.8～0.9),是金红石结构的多晶SnO2,以(200)晶面为最明显的择优取向.FTO低辐射薄膜的高温热稳定性良好,最高耐热温度为720℃,当超过此条件时,光电性能恶化.随钢化温度的升高,薄膜表层氧的相对含量逐渐降低,FTO和SiOxCy阻挡层之间的界面扩散层中Si—O键相对含量逐渐增加,这一变化趋势与电阻率的升高一致.薄膜内部[O]/[Sn]比受高温钢化的影响较小,对导电性恶化的贡献较小.
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