【摘 要】
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制造16兆位级,下一代“大规模集成电路(LSI)”,须要线幅为0.5微米以下的技术。为此须用波长短的X线和电子线。成本费用高。日本大阪大学工学部等单位,从紫外线能引起皮癌,得
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制造16兆位级,下一代“大规模集成电路(LSI)”,须要线幅为0.5微米以下的技术。为此须用波长短的X线和电子线。成本费用高。日本大阪大学工学部等单位,从紫外线能引起皮癌,得到启发。
Manufacturing 16-Mbit, next-generation “LSI” requires a technology that has line widths below 0.5 microns. For this purpose, a short wavelength X-ray and electron beam are required. High cost. Japan Osaka University Engineering and other units, from ultraviolet light can cause skin cancer, be inspired.
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