【摘 要】
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本文利用反应离子束溅射技术制备WO_3薄膜,在衬底温度为室温时,溅射制备的薄膜经电子束(?)时,说明它是无定形的。在电化学过程中,氢离子注入WO_3薄膜,使薄膜显示出蓝色,薄膜
【机 构】
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复旦大学应用表面物理国家重点实验室,复旦大学应用表面物理国家重点实验室,复旦大学应用表面物理国家重点实验室,复旦大学应用表面物理国家重点实验室 上海 200433,上海 200433,上海 20043
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本文利用反应离子束溅射技术制备WO_3薄膜,在衬底温度为室温时,溅射制备的薄膜经电子束(?)时,说明它是无定形的。在电化学过程中,氢离子注入WO_3薄膜,使薄膜显示出蓝色,薄膜的电阻率随之降低.这种显色性和敏感性使WO_3薄膜在显示器件和pH值敏感器件中得到应用。
In this paper, reactive ion beam sputtering technique was used to prepare WO_3 thin film. When the temperature of the substrate was room temperature, the thin film prepared by sputtering was electron beam (?), Indicating that it is amorphous. In the electrochemical process, hydrogen ions are implanted into the WO_3 thin film to make the thin blue color of the thin film, and the resistivity of the thin film decreases, which makes the WO_3 thin film be used in display devices and pH sensitive devices.
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