一种新的氨基磺酸钴镍镀液

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該文叙述一种新的电鍍Co-Ni合金薄膜的氨基磺酸盐鍍液,从該鍍液中得到的Co-Ni薄膜具有很寬范圍的磁性能。这种新的鍍液有相当好的着落力。硼酸,通常加在氨基磺酸盐鍍液中作为pH緩冲剂,但在这种新的氨基磺酸盐鍍液中并不需要。氯离子的活度是被高濃度的氨基磺酸离子所影响,具有高矯顽力(Hc)的Co-Ni合金薄膜,能在阴极上电鍍得到。 This article describes a novel sulfamate bath for electroplating Co-Ni alloy films from which Co-Ni films have a wide range of magnetic properties. This new bath has a very good landing force. Boric acid, usually added to the sulfamate bath as a pH buffer, is not required in this new sulfamate bath. The activity of chloride ions is affected by the high concentration of sulfamic acid ions. The Co-Ni alloy film with high coercivity (Hc) can be electroplated on the cathode.
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