钛表面沉积Fe-Pd磁性薄膜的研究

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采用电弧离子镀设备,以高纯Fe靶和Pd靶为原料,在TA1工业纯钛表面先后沉积Fe,Pd2层单金属薄膜.对样品分别进行700℃~1100℃,保温0.5h~3h的真空退火处理,使Fe膜和Pd膜之间形成扩散层,制备FePd磁性膜.重点研究了Fe,Pd及钛衬底之间的互扩散机制,膜层结构,薄膜的相组成.结果表明:在700℃,0.5h处理后FePd薄膜的合金化较好;在900℃,1h处理后虽有FePd相形成,但基体中的Ti已经扩散至表面;温度高于900℃且保温时间长于1h处理,不利于FePd膜的形成.
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