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从原理上分析了掩膜的光场成像特点,通过建立光场成像的计算机仿真模型,模拟四维光场的获取,并通过数字对焦算法获得离焦物体的清晰图像.同时利用采样定理分析了孔径采样密度对数字对焦图像的影响,计算出合适的采样间隔对仿真模型的复杂度进行优化.
基于掩膜的光场成像仿真及采样研究
【摘 要】
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从原理上分析了掩膜的光场成像特点,通过建立光场成像的计算机仿真模型,模拟四维光场的获取,并通过数字对焦算法获得离焦物体的清晰图像.同时利用采样定理分析了孔径采样密度
【机 构】
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北京航空航天大学精密光机电一体化技术教育部重点实验室
【出 处】
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光子学报
【发表日期】
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2010年06期
【基金项目】
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长江学者和创新团队发展计划(IRT0705);国家863计划项目;国家自然科学基金(60972088)资助
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