【摘 要】
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柱面涂胶问题、刻划间隙的选取及新型光刻掩模板的研制是柱面图形光学刻划需解决的三大关键问题，本文以这三个问题为中心详细讨论了在圆柱面上光刻图形的方法。
Cylindrical
【机 构】
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中国科学院长春光学精密机械研究所应用光学国家重点实验室
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柱面涂胶问题、刻划间隙的选取及新型光刻掩模板的研制是柱面图形光学刻划需解决的三大关键问题，本文以这三个问题为中心详细讨论了在圆柱面上光刻图形的方法。
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