【摘 要】
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一、引言一个可调谐染料激光器系统已用于普通的局部曝光的光致抗蚀剂薄膜。通过将激光聚焦到薄膜表面和调整入射束的强度来控制曝光斑点的大小。激光器功率和靶在束下的定
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一、引言一个可调谐染料激光器系统已用于普通的局部曝光的光致抗蚀剂薄膜。通过将激光聚焦到薄膜表面和调整入射束的强度来控制曝光斑点的大小。激光器功率和靶在束下的定位都由计算机控制。本文将描述该激光系统和说明怎样用该系统来曝光光致抗蚀剂薄膜。我们也将讨论入射激光功率与曝光斑点大小的关系,并表明该系统达到亚微米范围的能力。
I. INTRODUCTION A tunable dye laser system has been used for ordinary, partially exposed photoresist films. The size of the exposure spot is controlled by focusing the laser onto the film surface and adjusting the intensity of the incident beam. The laser power and the positioning of the target under the beam are computer controlled. This article will describe the laser system and illustrate how to use the system to expose the photoresist film. We will also discuss the relationship between incident laser power and exposure spot size, and demonstrate the ability of the system to reach sub-micron ranges.
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