【摘 要】
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我们通过脉冲激光淀积的方法在Y ZrO2 衬底上原位生长了Pb (Zr0 .6Ti0 .4 )O3/YBa2 Cu3O7-x双层薄膜 ,在此样品上利用电子探针分析了成分 ,X衍射谱证实了两层薄膜为单取向生
【机 构】
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南京大学电子系,微结构科学技术高等研究中心!南京210093,南京大学电子系,微结构科学技术高等研究中心!南京210093,南京大学电子系,微结构科学技术高等研究中心!南京210093,南京大学电子系
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我们通过脉冲激光淀积的方法在Y ZrO2 衬底上原位生长了Pb (Zr0 .6Ti0 .4 )O3/YBa2 Cu3O7-x双层薄膜 ,在此样品上利用电子探针分析了成分 ,X衍射谱证实了两层薄膜为单取向生长 .对Pb(Zr0 .6Ti0 .4 )O3薄膜的铁电性质进行了测试 ,得到了典型的电滞回线 ,并对介电常数和损耗角正切值随频率变化进行了测量 .
We have in situ grown Pb (Zr0.6Ti0.4) O3 / YBa2 Cu3O7-x bilayer thin film on Y ZrO2 substrate by pulsed laser deposition, and the composition, X-ray diffraction The spectra confirmed that the two films were grown in uniaxial orientation.The ferroelectric properties of Pb (Zr0.6Ti0.4) O3 thin films were tested and the typical hysteresis loops were obtained. The dielectric constant and loss tangent Frequency changes were measured.
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