【摘 要】
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四、X射线蚀刻A、概述X射线蚀刻是和光刻影印原理相同的一种影印技术。它采用波长很短(约10埃)的辐射,这就使衍射效应大为减弱,因而能复制出分辨力极高的图案。图14为X射线
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四、X射线蚀刻A、概述X射线蚀刻是和光刻影印原理相同的一种影印技术。它采用波长很短(约10埃)的辐射,这就使衍射效应大为减弱,因而能复制出分辨力极高的图案。图14为X射线蚀刻工艺图。掩模是一半透X射线的膜片,涂有一层对X射线高度吸收的薄膜,所需的图案就在这层薄膜中。掩模放置在涂有对离子辐射
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