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【摘 要】
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采用正交试验法对平面直流磁控溅射镀银的工艺条件进行了优化选择,并用优化的工艺条件制备出低吸收率的银膜。通过对一些镀膜工艺参数的考察,给出了几种影响银膜光学性能的重
【机 构】
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兰州物理研究所,兰州物理研究所730000,730000
【出 处】
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真空与低温
【发表日期】
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1993年3期
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