【摘 要】
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本文测量了用金属有机物化学气相沉积(MOCVD)方法在Si衬底上生长的GaAs外延层中的深能级发光光谱对温度的依赖关系,系统地研究了1.13和1.04eV发光带的发光强度,峰值位置和半宽度随着温度的变化关系,获得
【机 构】
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中国科学院长春物理研究所,中国民用航空学院,中国科学院西安光机所
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本文测量了用金属有机物化学气相沉积(MOCVD)方法在Si衬底上生长的GaAs外延层中的深能级发光光谱对温度的依赖关系,系统地研究了1.13和1.04eV发光带的发光强度,峰值位置和半宽度随着温度的变化关系,获得了它们的热激活能,Huang-Rhys因子,振动声子能量和Frank-Condon位移,并讨论其来源.
In this paper, we measured the temperature dependency of the deep-level luminescence spectra of GaAs epitaxial layers grown on Si substrate by metal-organic chemical vapor deposition (MOCVD) method. The effects of 1.13 and 1.04eV luminescence bands Their heat activation energy, Huang-Rhys factor, vibrational phonon energy and Frank-Condon displacement were obtained and their origins were discussed with regard to their luminescence intensities, peak positions and half-widths as a function of temperature.
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