利用载玻片刻蚀微流检测芯片的关键工艺

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为克服石英玻璃和Pyrex7740玻璃制作微流检测芯片价格昂贵、工艺流程复杂等不足,节约制作成本,简化制作步骤,缩短制作周期,设计利用普通钠钙玻璃(soda-limeglass)载玻片为基质,正光刻胶AZ4620为掩膜牺牲层,进行高效、快速、低成本的微流检测芯片制作。系统地研究了载玻片的预处理、光刻胶旋涂、各阶段烘焙参数、曝光显影量、刻蚀环境及玻璃腐蚀液成分配比等关键工艺参数,解决光刻胶与玻璃的黏附性,光刻胶在腐蚀液中的耐受时间等问题。工艺优化后刻蚀深度达到80μm,最小特征尺寸小于50μm,微流管道侧壁
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