碲锌镉表面腐蚀坑所对应缺陷的特性研究

• 作 者: 刘从峰 方维政 涂步华 孙士文 杨建荣 何力
• 机 构: 中国科学院上海技术物理研究所,功能材料与器件研究中心,上海,200083
• 出 处: 首届全国先进焦平面技术研讨会
• 发表日期: 2005年8期
• 关键词: 碲锌镉 腐蚀坑密度 微沉淀缺陷 位错密度

文中通过使用Nakagawa、Everson、EAg1和EAg2四种常用腐蚀剂对碲锌镉材料的腐蚀坑空间分布特性进行研究,结果显示,20μm厚的(111)晶片A、B面上的腐蚀坑在空间位置上不存在对应关系,这表明腐蚀坑所对应的缺陷不是具有穿越特性的位错.腐蚀坑的空间局限性特征和热处理后腐蚀坑密度(EPD)减少等实验结果表明,腐蚀坑更有可能对应某种微沉淀物缺陷,将目前常用腐蚀剂的EPD作为碲锌镉材料的位错密度是缺乏实验依据的.