化合物半导体的固态杂质源激光诱导扩散的研究

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<正> 1.研究内容本项目研究了以GaAs为衬底的固态杂质源激光诱导扩散。①半导体基片上微小高温区(即激光诱导扩散中的曝光区,直径10μm量级)温度的不接触实时测量。②激光诱导扩散装置的研制及扩散工艺的研究。扩散用的材料是进口含Zn的SiO_2乳胶液。扩散前先用它在N型GaAs衬底的表面制成胶膜。在激光诱导扩散中,此胶膜起双重作用:一是为高蒸气压的As原子提供一层密封膜,以阻止GaAs衬底的分解;二是作为掺入GaAs的Zn原子的源(所谓'固态杂质源')。用光功率密度合适的激光束
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