GaAs(100)衬底上自组织生长InAs量子点的研究

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本文利用在GaAs(100)衬底上自组织生长超薄层InAs的方法得到了InAs量子点结构.当InAs的覆盖度小于1.7ML(Mono-Layer)时,InAs层仍保持二维生长模式,而当InAs的覆盖度大于1.7ML时,InAs层将会成岛生长,得到的量子点的尺寸和分布相当均匀.我们还研究了不同覆盖度的InAs层的光致发光(PL)特性,结果发现在成岛前后,它们的PL特性有明显差异. In this paper, InAs quantum dot structure is obtained by the self-organized growth of ultra-thin InAs on GaAs (100) substrate. When the coverage of InAs is less than 1.7ML (Mono-Layer), the InAs layer remains two-dimensional growth mode, and when the InAs coverage is greater than 1.7ML, the InAs layer will be island growth, the resulting quantum dots The size and distribution is fairly uniform. We also studied the photoluminescence (PL) characteristics of InAs layers with different coverage and found that their PL characteristics were significantly different before and after the island formation.
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