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在过去的5、6年时间里面,IC工艺从130nm快速发展到90nm并随后很快进入当前的65nm节点,工艺技术的每一次进步都使得功率管理变得更为重要.在130nm节点时,IC生产商就开始注意到晶体管的电流泄露问题,即使在闲置状态下,晶体管也存在由于电流泄露而带来的功率消耗.
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【摘 要】
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在过去的5、6年时间里面,IC工艺从130nm快速发展到90nm并随后很快进入当前的65nm节点,工艺技术的每一次进步都使得功率管理变得更为重要.在130nm节点时,IC生产商就开始注意到
【出 处】
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电子元器件资讯
【发表日期】
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2009年10期
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