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等离子体显示器(PDP)是最有发展前景的新一代显示器件,MgO膜是其制造工艺中的一个瓶颈.本文结合PDP的发展,综述了近年来MgO膜层镀制与测试工艺的进展,讨论了PDP对保护膜性能的要求.PDP市场的进一步扩大亟需在生产上建立一个能取得共识的对MgO膜层性能进行评价的标准.
等离子体显示器件中氧化镁膜的制备和测试
【摘 要】
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等离子体显示器(PDP)是最有发展前景的新一代显示器件,MgO膜是其制造工艺中的一个瓶颈.本文结合PDP的发展,综述了近年来MgO膜层镀制与测试工艺的进展,讨论了PDP对保护膜性能
【机 构】
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清华大学电子工程系深圳豪威真空光电子股份有限公司;
【出 处】
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真空
【发表日期】
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2001年5期
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