【摘 要】
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正型光刻胶—江师4号光敏剂,已由江苏师院研制成功,其化学名称为:4,4′—双—[1,2迭氮萘醌—(2)—磺酰氧—(5)]—二苯丙烷(2,2)。由于这一类型光刻胶的涂层,经曝光显影后所
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正型光刻胶—江师4号光敏剂,已由江苏师院研制成功,其化学名称为:4,4′—双—[1,2迭氮萘醌—(2)—磺酰氧—(5)]—二苯丙烷(2,2)。由于这一类型光刻胶的涂层,经曝光显影后所得的图象与掩膜相同,故称为正型胶。正型光刻胶具有分辨率高(1μ),所得图形逼真,图形边缘整齐,线条陡直与锐度好等特点,灵敏度比负胶高,它的反差亦高,应用于精细的超微性图形的光刻技术中显
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