用分子镀法制备钕靶

来源 :核技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:tang070932
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众所周知,没有一种薄膜制备的方法能对各种材料普遍适用。目前,少数稀土元素可用真空蒸发的方法制备核物理实验用靶,但收集效率较低,同时由于稀土金属蒸发温度高,使靶造成污染。而分子镀方法是适于稀土元素快速定量的一种电沉积方法。它和一般电沉积方法的区别在于:电流通过期间以化合物的形式沉积在阴极上,保持恒定的高电压,使用有机溶剂。这种方法制备靶的优点是能给出极薄的薄膜或较厚的膜(10~2000μg/cm~2以上);大多数情况下沉积的膜是比较均匀的,并有很好的附着力,沉积效率可达100%,沉积时间短,制备样品所需的材料量少并易处理,所以对稀有或贵重材料如放射性同位素制靶是特别适用的。本文叙述了在异丙醇溶液中电沉积制备Nd靶的方法。 It is well known that none of the methods of film preparation are universally applicable to a wide variety of materials. At present, a few rare earth elements can be prepared by vacuum evaporation method for nuclear physics experiments, but the collection efficiency is low. At the same time, due to the high temperature of rare earth metal evaporation, the target is polluted. The molecular plating method is suitable for rapid quantitative determination of rare earth elements of an electrodeposition method. It differs from the general electrodeposition method in that it deposits on the cathode in the form of a compound during the passage of current, maintaining a constant high voltage, using an organic solvent. The advantage of this method for the preparation of the target is that it gives very thin films or thicker films (10-2000 μg / cm 2 or more); the films deposited in most cases are relatively uniform and have good adhesion , The deposition efficiency of up to 100%, the deposition time is short, the preparation of samples required less material and easy to handle, so rare or precious materials such as radioisotope target is particularly applicable. This article describes the electrodeposition of Nd target in isopropanol solution.
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