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本文提出了一种提高溅射镀膜膜厚均匀性的方法。通过计算得到对于多晶和非晶材料制成的阴极靶在强电场气体离子轰击下,若在靶中央开孔并适当选取靶与基板的距离,可以明显改善膜厚均匀性和均匀范围。采用10cm×10cm的阴极靶,中央开5cm×5cm的孔,所得薄膜厚度不均匀性小于3%的范围是11cm×11cm.