掺Cu的SrBi2Ta2O9薄膜的非线性光学特性的研究

• 作 者: 徐利 顾豪爽 王忠太 陈侃松
• 机 构: 湖北大学铁电压电材料与器件湖北省重点实验室
• 出 处: 湖北大学学报(自然科学版)
• 发表日期: 2007年2期
• 关键词: Cu∶SrBi2Ta2O9 薄膜 磁控溅射 Z-SCAN 光学非线性 Cu： SrBi2 Ta2O9 thin films magnetron sputte

以SrBi2Ta2O9陶瓷和高纯Cu片作为靶材,利用射频磁控溅射方法在双面抛光的石英基片上制备了掺Cu金属颗粒的SrBi2Ta2O9复合薄膜.用XRD和AFM表征了薄膜的结晶性能和表面形貌;利用单光束Z扫描技术在波长532 nm处测量了薄膜的非线性光学特性,其三阶非线性光学极化率的实部Reχ（3）=2.26×10^-9esu,虚部Imχ^（3）=0.62×10^-9esu.