【摘 要】
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首次采用355 nm脉冲激光沉积在不锈钢基片上制备了氧化铋薄膜. X-射线衍射(XRD)测试表明在基片温度为300 ℃,沉积时间为0.5 h制备得到的Bi2O3薄膜具有四方结构,SEM和Raman光
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首次采用355 nm脉冲激光沉积在不锈钢基片上制备了氧化铋薄膜. X-射线衍射(XRD)测试表明在基片温度为300 ℃,沉积时间为0.5 h制备得到的Bi2O3薄膜具有四方结构,SEM和Raman光谱测定对该Bi2O3薄膜的表面形貌和锂化前后的结构进行了表征,结果表明薄膜由小于100 nm针状晶粒组成,锂化后的产物可能是LixBi2O3. 此外,由电位阶跃法测定了上述 Bi2O3 薄膜电极的锂离子扩散系数. 电化学测定表明,上述Bi2O3薄膜具有充放电循环性能. 在电压范围为0.70～3.5 V,该氧化铋
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