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该文研究了制备NbN薄膜的关键问题与实验技术.我们采用了磁控溅射和直流偏压二极溅射两种不同的方法制备了NbN薄膜;用XRD和TEM测量比较了两种不同溅射方法所获得的NbN薄膜的特点;并测量了NbN薄膜的超导转变温度.在此基础上,设计出Cu-NbN超导模型腔,为以后做出优于纯铌和铜铌溅射腔的Cu-NbN超导注入器和超导直线加速器做了准备工作.在NbN的制备过程中,我们发现NbN薄膜的成分和表面形貌受氮气流量、衬底温度、偏压大小以影响很大;其结晶情况受衬底温度和溅射功率影响较大;其超导转变温度受溅射室内本底真空的影响较大.通过实验我们找到了合适的条件,选择了合适的溅射角度(磁控溅射),可以精确制备出均匀的、致密的、超导性好的NbN薄膜.设计Cu-NbN模型腔,主要是为了在低温下测量模型腔的Q值以及NbN薄膜的表面电阻.为了能够说明NbN薄膜作为超导腔材料的优势,我们设计了两个小的铜材料的圆柱形模型腔,在腔的内壁上溅射上均匀、致密的NbN薄膜,抽真空后降到液氦温度,激励起TM<,010>模,从理论上可以得到Q值约为4.5x10<10>.实际做实验中,考虑到激励起TM<,010>模式的特点,电流流过侧壁和端壁的交界线的时候,会引起比较大的损耗,所以实际做实验的时候,可以考虑激励TE<,011>模,这样腔内的电流是环绕中心轴的方向,这样电流就不会流过侧壁和端壁的交界线而引起比较大的损耗.我们分别在玻璃、无氧铜、硅片上溅射了NbN薄膜,都得到了均匀、致密、超导性好的NbN薄膜,这些薄膜在低温和高温下都不脱落,表现出非常好的稳定性.通过直流偏压二极溅射,有条件制备出大面积定向生长的NbN薄膜,模型腔低温实验成功以后,以后设计Cu-NbN超导腔真正成为可行.