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钴铁氧体(CoFe_2O_4)薄膜具有较高的矫顽力与磁晶各向异性，化学稳定性和耐磨损性能，可作为高密度磁记录介质。本论文主要研究了缓冲层对CoFe_2O_4／Si(100)薄膜微观结构与磁性能的影响，缓冲层分别是Fe_3O_4和TbFeCo。采用直流磁控溅射技术以及真空退火制备了Fe_3O_4薄膜，并在Fe_3O_4薄膜上采用射频磁控溅射技术制备CoFe_2O_4薄膜。制备的CoFe_2O_4／Fe_3O_4／Si(100)薄膜经过常规退火处理，具有立方尖晶石结构，无择优取向。Fe_3O_