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该文采用Raman光谱和X射线小角衍射方法对所制备的Ge/Si多层膜的结构进行了实验和理论上的分析.在实验上,对各种Ge/Si多层膜进行了Raman光谱与X射线小角衍射的测试,对测试结果进行了分析.对Ge/Si多层膜的光电性能进行了系统的研究,发现a-Ge/Si多层膜具有横向光电效应,实验结果表明,Ge/Si多层膜的横向光电效应及其光学性能与其周期数、周期厚度和制备工艺参数有关.在实验中还发现Ge/Si多层膜具有一定的红外增透性.