论文部分内容阅读
本文围绕离子束技术在高功率激光薄膜制备中的应用，以“认识离子束技术、研究和使用离子束技术”为线索展开。
本文首先介绍了不同类型离子源的工作原理和优缺点，介绍了Mark-Ⅱ离子源安装中需注意的问题。建立了镀膜时真空室压强对薄膜堆积密度影响的模型，并根据该模型，强调了离子束镀膜机真空抽速的重要性。
为了研究离子束特性，设计了使用方便、可实现多点探测的离子束流密度的测量装置。总结了离子束对薄膜的微观作用机理以及宏观作用过程。
研究了离子束清洗技术对基片表面清洁度、表面能、粗糙度、表面形貌等属性的影响，建立了离子束清洗基片的清洗模型，并运用该技术成功地使单层氧化铪薄膜的损伤阈值从9.6J/cm2提高到18J/cm2。
研究了离子束流密度对氧化锆薄膜光学属性的影响，发现离子束辅助沉积技术有助于得到光学均匀的氧化锆薄膜。进行了离子束辅助沉积氧化铪单层膜和增透膜属性的研究，强调了影响薄膜抗激光损伤特性的不利因素和有利因素互相竞争的观点。
进行了金属物制备氧化铪薄膜的研究，发现离子源的工作参数可显著影响薄膜的抗激光损伤特性，指出不同方式制备高功率激光薄膜所需要控制的缺陷种类不同，离子束反应辅助沉积方式主要应抑制薄膜的金属性，提高薄膜的化学计量比。