电化学还原解吸测定致密十二烷基硫醇SAMs覆盖量—金基底表面不同预处理的影响探讨

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覆盖量Γm是自组装单层分子膜(Self-assembled Monolayers,SAMs)表界面性质的一个重要表征参数,它不仅能够宏观地反映出SAMs的致密性,而且对不同组装时间覆盖量Γm变化的研究还能够反映SAMs吸附动力学,为动力学吸附机制的研究提供有效信息。本论文主要研究不同预处理对自组装单层覆盖量Γm的影响,并探讨了循环伏安法与交流阻抗谱测定金电极界面电容的相互比较:  1.系统地研究了多晶金电极上五种主要预处理对十二烷基硫醇(C12SH)自组装24 h后表面SAMs覆盖量Γm的影响。测定方法采用在碱性溶液中电化学还原解吸,五种预处理方法分别为王水处理、还原退火处理、UV/O3处理、Piranha试剂处理和打磨抛光处理。实验结果表明五种预处理方法所得Au表面覆盖量Γm的大小为:王水处理(8.0×10-10mol cm-2~还原退火处理(7.8×10-10 mol cm-2)>UV/O3(紫外/臭氧)处理(5.0×10-10 molcm-2)~Piranha试剂处理(4.5×10-10 mol cm-2)~打磨抛光处理(4.0×10-10 mol cm-2)。研究结果表明:王水处理和还原退火处理的Au表面最好,求算的单层覆盖量与多晶Au电极表面C12SH的覆盖量Γm理论值(Γm=8.0×10-10 mol cm-2)基本相近,而其它三种方法(UV/O3处理、Piranha试剂处理和打磨抛光处理)得到的覆盖量Γm不好,大概只有理论值的一半。因此在Au电极SAMs组装实验中我们推荐使用王水和还原退火预处理。  2.在不同的电解质溶液中不同分子/离子在金电极表面吸附行为不同,导致Au电极表现出不同的电化学性质。这种吸附行为类似于在金电极表面形成的自组装单层膜,同样对金电极表面的电子传递产生阻碍作用。由于不同底液分子的空间结构不同,从而在金电极表面的吸附程度也不相同,致使金电极表面的界面电容等电化学行为不同。本章采用循环伏安法(CV)和电化学阻抗谱(EIS)的方法研究Au电极在0.1 M Na2SO4底液中界面电容的变化规律,重点考察了两种测定方法所获界面电容结果的差异。
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