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酞菁化合物是一类有机功能染料,因其具有很好的光、热及化学稳定性,优异的光、电性质,以及分子结构的可调节性引起了研究者的极大兴趣.这类化合物在光导、光存储、化学传感器、光伏打电池、非线性光学、电致变色显示等高新技术领域有广阔的应用前景.该论文围绕着八烷氧基酞菁的合成、结构表征及其激发态特性进行了研究,应用Z-扫描技术重点讨论了这类分子的反饱和吸收及非线性折射特性,并探讨了其在光限幅方面的应用,揭示了取代基效应以及中心金属离子对该类化合物的激发态特性和光限幅性能的影响.