光栅的干法刻蚀与分布反馈半导体激光器的研究

来源 :武汉邮电科学研究院 | 被引量 : 0次 | 上传用户:itliutao123
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10 Gb/s或者更高传输速率光纤通信系统在局域网和城域网中正变得越来越重要.高速DFB激光器是高速光通信网的关键部件.他们在基于WDM技术的光传输网中有着非常重要的应用.在光栅的制作中有两种方法:一是湿法腐蚀,另一个是干法腐蚀.由于DFB激光器的光栅用湿法腐蚀的方法有很多缺点,我们就采用了干法腐蚀在InP和InGaAsP上做实验.该论之还介绍一种新的方法,SiN作掩蔽膜,用全息光刻,反应离子刻蚀的方法作光栅.此外,也讨论了DFB和光栅的理论,以及DFB激光器的制作工艺.
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