【摘 要】
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该文从图形生长的角度,对使用"低偏场法"在两类典型石榴石磁泡薄膜上形成的枝状畴(MBD)进行了研究,并对其静态特性和分形维数进行了统计性的测量.我们发现随着直流偏场H的降
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该文从图形生长的角度,对使用"低偏场法"在两类典型石榴石磁泡薄膜上形成的枝状畴(MBD)进行了研究,并对其静态特性和分形维数进行了统计性的测量.我们发现随着直流偏场H<,b>的降低,MBD分枝越来越多,分形维数越来越大,MBD畴壁中的垂直布洛赫线(VBL)数目也越来越多,因而我们的研究首次建立了枝状畴图形的分形维数与伴随着枝状畴形成在其畴壁中激发的VBL之间的关系.
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