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本文以醋酸镉、氨水、硫脲为主要原料采用化学水浴沉积法制备出CdS薄膜，深入探讨了沉积温度、沉积时间、成膜溶液的pH值、退火条件等对薄膜质量的影响。经X射线衍射、扫描电镜、台阶仪和紫外可见吸收光谱等测试手段对样品的晶体结构、表面形貌、厚度和光学性能进行表征。得出以下结论： 1．当沉积进行至60分钟时，反应基本完成，沉积出CdS薄膜的厚度基本稳定，约110nm左右。 2．当沉积温度小于85℃时，沉积出的薄膜以立方相为主；当沉积温度大于等于85℃时，沉积出的薄膜以六方相为主。 3．反应溶液的pH值影响络合剂的络合能力，当反应溶液的pH值过低时，沉积薄膜厚度较小，表面缺陷较多；当反应溶液的pH值过大时，会减弱缓冲剂的作用，同时会使反应溶液中存在大量的NH3，容易在薄膜表面形成孔洞。因此，反应溶液pH值过小或者过大都不利于沉积均匀致密的CdS薄膜。 4．化学水浴沉积法制备CdS薄膜的最佳条件为：沉积时间60分钟、沉积温度85℃、pH值10。 5．退火处理使薄膜禁带宽度变窄，吸收边蓝移并且变得陡直，表明退火处理可以使CdS薄膜变的致密，同时吸收边得到明显改善。 6．在预制膜表面旋涂饱和CdCl2的甲醇溶液退火能有效地促进晶粒的生长与薄膜的重结晶。提高退火温度可以增强薄膜的六方相，但是当退火温度达到450℃时，薄膜部分被氧化。