深层光刻机图像对准技术研究

来源 :中国科学院光电技术研究所 | 被引量 : 0次 | 上传用户:billhe123
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掩模-样片对准是深层光刻机的三大核心技术(曝光系统、对准、工件台)之一,随着光刻技术的发展,对准精度的也不断地提高。目前国外先进的深层光学光刻机都采用视频图像对准技术,我们研制的深层光刻机也采用了这种技术。本文主要论述了一种高精度的视频图像对准系统研制,包括对准技术的原理、系统的构成和设计以及实验结果的分析。经过理论和实践证明,这套对准系统具有高精度、高效率和运行可靠等优点,完全满足深层光刻机的对准要求,目前已经开始小批量生产.
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