【摘 要】
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该文将分子沉积(MD)技术应用于化学修饰电极的制备,成功地制备了以下三种MD膜修饰电极,并对它们的电化学性能进行了研究.一、电位型MD膜碘离子选择性电极,研究了以四磺酸基苯
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该文将分子沉积(MD)技术应用于化学修饰电极的制备,成功地制备了以下三种MD膜修饰电极,并对它们的电化学性能进行了研究.一、电位型MD膜碘离子选择性电极,研究了以四磺酸基苯基卟啉和四磺酸基酞菁钴为功能性能材料制备的MD膜修饰电极对磺离子的电位响应,并进行了实际样品的分析,得到了较好的结果.二、电流型磷钼杂多酸MD膜修饰电极,研究了以磷钼杂多酸为功能性膜材料制备的MD膜修饰电极的电化学性质以及对H<,2>O<,2>的电催化性能,电极具有良好的电化学性质和电催化性能.三、电位型MD膜修饰电极响应机理的初步探索,研究了以变色酸、亚硝基R盐为功能性膜材料制备的MD膜修饰电极对Fe<3+>、Cu<2+>的电位响应,在响应机理方面进行了初步的探索性研究和合理的推测.
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