【摘 要】
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逻辑综合是数字电路设计中极为重要的环节,而工艺映射是完成这个环节最为重要的一步.该文对以下几方面进行了研究:1、以往,检测变量对称通过判断两个相关布尔函数的BDD图是否
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逻辑综合是数字电路设计中极为重要的环节,而工艺映射是完成这个环节最为重要的一步.该文对以下几方面进行了研究:1、以往,检测变量对称通过判断两个相关布尔函数的BDD图是否同构.我们提出一种算法,检测变量对称与否只需建立一个BDD.而且同构的比较只是局部BDD互相比较,由于BDD图的大小和变量数呈指数关系,所以算法具有时间复杂度和空间复杂度两方面的优势.2、另外,过去的匹配算法往往只考虑单个变量的标签,单个变量和其他变量的组合标签.但是,变量组之间的关系并没有被充分考虑.根据BDD结构独特的性质,我们发现特征BDD子图不仅能充分反映待区分变量信息,而且能体现出变量组之间的对应关系.通过特征BDD子图,能方便得到有价值的变量标签.3、BDD是表示、操作布尔代数的一种有效方式.变量对称检测、布尔函数匹配和形式验证等算法都需要用到BDD.这样,BDD的大小和这些算法执行时间呈正比,而BDD的大小和变量序直接相关.该文针对对称变量的特性,找出另外几种有利于缩减BDD的变量关系.在此基础上,进一步对变量组分析、重组,最终得到变量序.该文算法执行结果良好,并且和BDD初始变量序没有关系,是一种稳定的算法.4、双态覆盖(Binate Covering)被首先用于减少有限状态机(FSM)中状态数,由于占用内存很大,运行时间长没有得到充分的重视.该文详细论述了双态覆盖的特点及其在工艺映射中的应用,并针对电路进行初步实现.针对调整门的大小,论文讨论了如何提取关键路径,使得优化更具有准确性.作者博士论文以布尔匹配为中心,尝试提高匹配的效率和覆盖的效果,以满足超大规模集成电路设计、综合的需要.
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