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近红外吸收菁染料作为一类重要的功能性染料,由于其在光盘存储、电子照像、LB膜、光致变色等领域具有十分广阔的应用前景,而引起了人们极大的研究兴趣,在短短的十年间已取得了很大的应用进展.但其光氧化稳定性能不太理想,易发生光氧化反应而褪色,进而影响其实际应用价值,该论文研究课题正是基于此背景下提出的.该文对九种代表性近红外菁染料的光氧化稳定性能、结构影响因素及其光氧化反应机理进行系统研究,具体如果如下:1.菁染料的光褪色作用主要是由于光氧化反应所致;并具在乙腈溶液中其光氧化反应符合一级反应动力学;2.研究了分子结构内在因素对菁染料光氧化稳定性能的影响;3.成功的应用了自旋俘获-顺磁共振谱(ESR)技术,证明了在菁染料的自敏光氧化瓜原初过程中,既存在单线态氧过程,又存在超氧负离子过程;4.通过选择性猝灭实验给出,在菁染料的光氧化反应机制中,具有反应活性的单线态氧和超氧负离子对光氧化反应均有贡献,其中单线态氧是导致菁染料褪色的主要原因;5.在溶液中的光氧化反应研究结果发现,当加入金属镍螯合物单线态氧猝灭剂时,菁染料的光氧化稳定性能则显著增加;6.通过红外光谱(IR)、核磁共振谱(NMR)、质谱(MS)等方法,对苯并噻唑三碳菁染料的光氧化反应产物进行了直接分析鉴定,确定了光氧化反应主要发生与杂环母核相连的次甲基碳链上,导致氧化断裂;7.为模拟菁染料作为光盘记录介质所处的实际状态,对六种近红外吸收菁染料在固态薄膜时的光氧化稳定性能进行了研究;8.所研究的九种近红外吸收菁染料在近红外区均有着比较强的光谱吸收,作为光盘染料能够与半导体激光光源的发射相匹配.